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　　10月29日晚间，上交所披露科创板上市委2021年第79次上市委审议会议结果公告，拓荆科技股份有限公司(下称“拓荆科技”)首发上市获无条件通过。继芯源微，神工股份后，辽宁半导体上市企业再增生力军。

　　拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

　　招股书显示，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备，主要客户包括中芯国际、长江存储、华虹集团等国内主要半导体企业。

　　拓荆科技本次拟在上交所科创板公开发行新股不超过3161.98万股，且不低于发行后公司总股本的25%，拟募集资金10亿元，其中7986.46万元拟用于“高端半导体设备扩产项目”，3.99亿元拟用于“先进半导体设备的技术研发与改进项目”、2.71亿元拟用于“ALD设备研发与产业化项目”、2.50亿元拟用于“补充流动资金”。

　　资料显示，拓荆科技成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。2016年、2017年、2019年获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。

（文章来源：上海证券报·中国证券网）

文章来源：上海证券报·中国证券网

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